超聲蕩滌的重要機(jī)理是超聲空化作用．超聲空化的強(qiáng)弱與聲學(xué)參數(shù)、蕩滌液的物理化學(xué)性質(zhì)及環(huán)境前提有關(guān)，所以要得到良好的蕩滌后果必須抉擇恰當(dāng)?shù)穆晫W(xué)參數(shù)跟蕩滌液。

聲強(qiáng)或聲壓的抉擇

在蕩滌液中只有交變聲壓幅值超過(guò)液體的靜壓力時(shí)才會(huì)呈現(xiàn)負(fù)壓。而負(fù)壓要超過(guò)液體的強(qiáng)度才干產(chǎn)生空化。使液體產(chǎn)生空化的最低聲強(qiáng)或聲壓幅值稱為空化閾。各種液體存在不同的空化閾值，在超聲蕩滌槽中的聲強(qiáng)要高于空化閾值才干產(chǎn)生超聲空化。對(duì)個(gè)別液體，空化閾值約為每平方厘米1／3瓦(聲壓的千方正比于聲強(qiáng))．聲強(qiáng)增加時(shí)，空化泡的最大半徑與起始半徑的比值增大，空化強(qiáng)度增大，即聲強(qiáng)愈高，空化愈強(qiáng)烈．十字軸有利于蕩滌作用。但不是聲功率越大越好，聲強(qiáng)過(guò)高．會(huì)產(chǎn)生大量無(wú)用的氣泡，增加散射衰減，形成聲屏障，同時(shí)聲強(qiáng)增大也會(huì)增加非線性衰減，這樣都會(huì)減弱闊別聲源處所的蕩滌后果。對(duì)一些難蕩滌清潔的污物，例如金屬名義的氧化物，化纖噴絲板孔中污物的蕩滌，則須要采取較高的聲強(qiáng)．此時(shí)被蕩滌面應(yīng)貼近聲源，這時(shí)大多不采取槽式蕩滌器．而用棒狀聚焦式換能器直接插入蕩滌液湊近蕩滌件的名義進(jìn)行蕩滌．

頻率的抉擇

超聲空化閾值跟超聲波的頻率有密切關(guān)聯(lián)．頻率越高，空化閾越高，換句話說(shuō)，頻率越高，在液體中要產(chǎn)生空化所須要的聲強(qiáng)或聲功率也越大；頻率低，空化輕易產(chǎn)生，同時(shí)在低頻情況下，液體受到的緊縮跟稀少作用有更長(zhǎng)的時(shí)光間隔．使氣泡在瓦解前能成長(zhǎng)到較大的尺寸，增高空化強(qiáng)度，有利于蕩滌作用．目前超聲波蕩滌機(jī)的工作頻率依據(jù)蕩滌對(duì)象，大抵分為三個(gè)頻段；低頻超聲蕩滌(20一50KHz)，高頻超聲蕩滌(50—200KHz)跟兆赫超聲蕩滌(700KHz一1MHz以上)．低頻超聲蕩滌實(shí)用于大部件名義或者污物跟蕩滌件名義結(jié)合強(qiáng)度高的場(chǎng)合。十字軸萬(wàn)向節(jié)軸承由于卓越的品質(zhì)及周到的服務(wù)，事業(yè)也進(jìn)展迅猛。頻率的低端，空化強(qiáng)度高。易腐化蕩滌件名義，不適合蕩滌名義光潔度高的部件，而且空化噪聲大．40KHz左右的頻率，在同聲強(qiáng)下，產(chǎn)生的空化泡數(shù)量比頻率為20KHz時(shí)多，穿透力較強(qiáng)，宜蕩滌名義外形龐雜或有盲孔的工件，空化噪聲較?。栈瘡?qiáng)度較低，適合蕩滌污物與被蕩滌件名義結(jié)協(xié)力較弱的場(chǎng)合，高頻超聲蕩滌實(shí)用于盤(pán)算機(jī)。微電子元件的精巧蕩滌，如磁盤(pán)、驅(qū)動(dòng)器，讀寫(xiě)頭，液晶玻璃及平面顯示器，微組件跟拋光金屬件等的蕩滌．這些蕩滌對(duì)象請(qǐng)求在蕩滌進(jìn)程中不能受到空化腐化．要能洗掉微米級(jí)的污物。兆赫超聲蕩滌實(shí)用于集成電路芯片、硅片及簿膜等的蕩滌。能去除微米、亞微米級(jí)的污物而對(duì)蕩滌件不任何傷害。因?yàn)榇藭r(shí)不產(chǎn)生空化．其蕩滌機(jī)理重要是聲壓梯度．粒子速度跟聲流的作用．特點(diǎn)是蕩滌方向性強(qiáng)，被蕩滌件個(gè)別置于與聲束平行的方向．